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电网投资进入“新常态” 龙头在竞争中脱颖而出
发布时间:2025-07-02 08:40:40  来源:创新电力工程有限公司

为了应对智能电视的普及,电网智能盒子厂商也在积极探索与其他智能家居设备相连接,将应用场景从家庭娱乐扩展到视频、办公、教育、健身等场景

投资态龙(3)利用DFT计算证明了FeNiLDH与界面层之间相互协同增强作用。本项工作不仅提供了可以作为OER催化剂基底材料的铁镍合金片,进入竞争也对界面层在催化过程中的增强作用进行机理研究,进入竞争进而为降低反应过电势的OER催化剂的研究提供了新的策略。

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【图文导读】 图1不同基底上铁镍层状双氢氧化物纳米片合成示意图图2不同基底上铁镍双氢氧化物纳米片阵列形貌与结构表征(a-c)FeNiLDH纳米片生长于铁镍合金片、新常铁片及镍片基底上的SEM图像(d)FeNiLDH纳米片生长于铁镍合金片、新常铁片及镍片基底上的XRD表征(e-f)FeNiLDH纳米片生长于铁镍合金片、铁片及镍片基底上的HAADF-STEM及STEM-EDX图像图3不同基底上铁镍双氢氧化物纳米片阵列XPS表征(a-c)FeNiLDH纳米片生长于不同基底上的XPS全谱图(d-f)FeNiLDH纳米片生长于不同基底上的Fe元素的XPS谱图(g-i)FeNiLDH纳米片生长于不同基底上的Ni元素的XPS谱图图4催化剂的OER催化活性表征(a)催化剂OER性能的CV表征(b)在特定电势下催化剂质量活性(A/g)对比柱状图(c)在特定电势下催化剂的TOFtm对比柱状图(d)催化剂Tafel曲线图(e)催化剂Nyquist曲线图(f)催化剂在5V电压下的i-t测试曲线图5DFT模拟计算表征及OER催化过程示意图(a-b)OH在FeNiLDH、FeNiLDH与界面层的吸附位点示意图(c)FeNiLDH、FeNiLDH与界面层的OH吸附能对比图(d)FeNiLDH、FeNiLDH与界面层的稳定吸附位点Ni的d能带中心和d带密度对比图(e)OER在催化剂上的反应过程示意图【小结】该研究制备了原位垂直生长在不同金属基底箔片上的FeNiLDH纳米片阵列,并在FeNi合金基底上得到最佳OER性能催化剂。同时,中脱通过密度泛函理论的计算对界面层的催化机理进行计算,中脱可得FeNiLDH与铁镍合金基底间的生成的铁镍氢氧化物界面层,相比于单一的铁镍层状双氢氧化物,对于OH-具有更好的吸附效应,进而促进了OER反应进行。电网具有仅90mV的起始过电势与界面增强的催化活性(电流密度为10mA/cm2的过电势为130mV)以及较持久的稳定性。

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目前,投资态龙所报道的高活性的LDH催化剂,投资态龙采用镍泡沫、石墨烯、碳纳米管等作基底材料,仍需要较高的过电势来驱动反应,并且缺乏对于基底材料在催化过程中发挥作用的机理研究。尽管关于OER的非贵金属电催化剂的研究已经取得较大进展,进入竞争然而设计并合成能够在较低过电势驱动较大电流密度的OER催化剂仍具有较大挑战。

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新常极低的反应过电势可以归结为以下三点:(1)原位垂直生长的二维片状结构为OER提供更多的活性位点。

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深度学习算法包括循环神经网络(RNN)、投资态龙卷积神经网络(CNN)等[3]。因此,进入竞争2018年1月,美国加州大学伯克利分校的J.C.Agar[7]等人设计了机器学习工作流程,帮助我们理解和设计铁电材料。

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